装置概述
本装置是催化剂预处理装置,拥有四个气路,两套独立的气路控制单元,加热炉安装在装置的左右两侧,选用精密的控制仪表,使得装置具有控温精度高、可靠性高、操作简便、结构紧凑的特点。该装置可用于催化剂预处理,包括还原、氧化、碳化、硫化、氮化等,也可用于复合材料的后处理。
技术参数
- 气路:1-4(任选);
- 加热炉:1-2(任选),加热炉温度Max:1200 ℃;
- 气体质量流量器:0 – 500 mL/min(任选);
- 工作压力:常压;
- 温度控制:± 0.5 ℃;
- 计算机控制(任选)。